真空鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法
發(fā)布日期:2022-11-30
空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法,所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi),真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。
多弧離子鍍膜的方法,在條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn),可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。
真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的不足,且各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)都優(yōu)于傳統(tǒng)工藝,在五金、機(jī)械、化工、模具、電子、儀器等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比,在技術(shù)上有哪些創(chuàng)新?
1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一,真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜鉻的三分之一,不銹鋼的四分之一,可反復(fù)利用,大大降低了成本。
2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”,需要再加工時(shí)不經(jīng)任何處理。