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真空電鍍使用特點主要有哪些?

發(fā)布日期:2022-10-31

 真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣,氬氣撞擊靶材,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。為了滿足更安全、更節(jié)能、降低噪聲、減少污染物排放的要求,在表面處理工藝上,真空電鍍已經(jīng)成為環(huán)保新趨勢。與一般的電鍍不同,真空電鍍更加環(huán)保,同時,真空電鍍可以生產(chǎn)出普通電鍍無法達到的光澤度很好的黑色效果。真空電鍍使用特點主要有哪些?

真空鍍膜設(shè)備

    1、真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴格復制出啤件表面的形。

    2、工作電壓不是很高(200V),操作方便,但設(shè)備較昂貴。

    3、蒸鍍鍋瓶容積小,電鍍件出數(shù)少,生產(chǎn)效率較低。

    4、只限于比鎢絲熔點低的金屬(如鋁、銀、銅、金等)鍍飾。

    5、對鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補工件表面缺陷。

    6、真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS、PE、PP、PVC、PA、PC、PMMA等。

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