鍍膜設(shè)備就是在高真空狀態(tài)下通過(guò)高溫將金屬鋁熔化蒸發(fā)，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤的設(shè)備。真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。

鍍膜設(shè)備的鍍膜方式：離子鍍，蒸發(fā)鍍，濺射鍍

　　(1)鍍膜設(shè)備的特點(diǎn)： 成膜速度快0.1- 50um/min，設(shè)備比較簡(jiǎn)單，操作容易;制得薄膜純度高;薄膜生長(zhǎng)機(jī)理較簡(jiǎn)單。

　　(2) 缺點(diǎn)：薄膜附著力較小，結(jié)晶不夠完善，工藝重復(fù)性不夠好。

鍍膜設(shè)備鍍出的產(chǎn)品掉膜是怎么回事?

　　一、產(chǎn)品表面潔凈度不夠，離子源清洗氬氣放大時(shí)間長(zhǎng)點(diǎn)。

　　二、清洗是否有加了清洗劑，或者更換了清洗劑，建議用純水先試一下。

　　三、工藝參數(shù)是否有變動(dòng)在膜厚和電流上可以做點(diǎn)調(diào)整。

還有就是靶材的問(wèn)題等。