蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)鍍膜的操作流程
發(fā)布日期:2022-08-15
鍍前準(zhǔn)備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預(yù)熔→蒸發(fā)→取件→膜層表面處理→成品
1、鍍前準(zhǔn)備
工序包括鍍件清洗、蒸發(fā)源制作與清洗,真空室鍍件夾具清洗、安裝蒸發(fā)源、裝鍍件等。
?、馘兗那鍧嵑吞幚?/p>
膜與鍍件表面的結(jié)合力是產(chǎn)品質(zhì)量的重要指標(biāo)。它由許多因素決定,鍍膜前的表面處理是最基本的因素之一。如果鍍件表面有油脂、吸附水和灰塵,會(huì)降低膜的結(jié)合力,影響表面粗糙度。
化學(xué)除油:各種不同的金屬與非金屬鍍件應(yīng)采用相應(yīng)的脫脂除油工藝,具體方法可在本網(wǎng)技術(shù)欄目搜索除油查看相關(guān)文章。
靜電除塵:鍍件在成型的過程中容易帶靜電,而使膜層產(chǎn)生針孔或降低膜的結(jié)合力,因此在涂底漆前須除去靜電。
涂底漆:一般蒸發(fā)底的膜層厚度0.05~0.1um,而普通鍍件的表面不平度為0.5um,膜層的厚度遠(yuǎn)不足以填補(bǔ)凹坑。為降低表面粗糙度,一般在鍍件表面涂7~10um的特制底漆,以消除凹坑,取得整平表面的效果。
?、谡舭l(fā)源的制作
按照產(chǎn)品的使用要求和鍍件的材質(zhì),選擇適當(dāng)?shù)恼舭l(fā)材料是獲得優(yōu)質(zhì)膜層的基本條件。
選用金屬膜材料的基本原則是:應(yīng)有良好的熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性,機(jī)械強(qiáng)度高,內(nèi)應(yīng)力低,并有一定的韌性,與底漆結(jié)合性良好,反光率高,真空中放氣量小;材料來源廣,價(jià)格低廉,具有相應(yīng)的蒸發(fā)源。
不同的蒸發(fā)材料,需選用相應(yīng)的蒸發(fā)源和蒸發(fā)鍍方式。
?、壅婵帐液湾兗A具的清洗
有內(nèi)罩的真空室污染,可取下罩清洗或更新,若無內(nèi)罩可用碳酸鈣擦拭,再水擦,最后用無水乙醇擦凈。
常用的鋁夾具可先用20%NaOH液浸泡至表面呈褐色,再用流水沖洗凈,用HNO3浸至褐色消失,再水洗烘干。
④安裝蒸發(fā)源
注意戴脫脂手套,工具要事前脫脂。特別注意蒸發(fā)源與電極良好接觸。
?、莘胖缅兗?/p>
應(yīng)平穩(wěn)牢固放置在鍍件地和鍍件夾上,以防蒸發(fā)時(shí)因夾具旋轉(zhuǎn)而將鍍件拋離夾具,需戴脫脂手套,不得講話,保持鍍件夾具清潔。
2、抽真空步驟
開啟冷卻水閥,調(diào)節(jié)到所需水壓,打開總電源,關(guān)閉通往真空室的大氣閥,關(guān)閉配管閥,啟動(dòng)機(jī)械泵電源,打開預(yù)真空閥。此時(shí),機(jī)械泵吸入真空室,然后進(jìn)行離子轟擊,打開擴(kuò)散泵的加熱電源,關(guān)閉預(yù)真空閥,當(dāng)擴(kuò)散泵滿足工作要求時(shí),關(guān)閉真空閥,打開配管閥,打開高真空閥,此時(shí),擴(kuò)散泵、機(jī)械泵吸入真空室,真空度達(dá)到一定值后進(jìn)行烘烤、預(yù)熔、蒸發(fā)。
3、離子轟擊
輝光放電時(shí),離子轟擊電子獲得很高的速度,在鍍件周圍因電子較大的遷移率而迅速帶有負(fù)電荷,在負(fù)電荷吸引力的作用下,正離子轟擊鍍件表面,鍍件表面有能量交換,在鍍件吸附層和活性氣體之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng),達(dá)到清潔表面的效果。
離子轟擊的條件是剩余氣體壓力穩(wěn)定在0.13~13Pa,電壓為1.5~10kV,時(shí)間為5~60min。
4、烘烤
可加速鍍件或夾具吸附的氣體迅速逸出,有利于提高真空度和膜層結(jié)合力,烘烤時(shí)需注意,對于非金屬烘烤溫度要低于鍍件的熱變形溫度20~30℃,對金屬烘烤一般不超過200℃。
5、預(yù)熔
可除去蒸發(fā)材料中低熔點(diǎn)雜質(zhì)和蒸發(fā)源及蒸發(fā)材料中吸附的氣體,有利于蒸發(fā)的順利進(jìn)行,預(yù)熔的真空度一般為6.6×10-3Pa,時(shí)間以完全熔化為止,對吸濕性大的物質(zhì)應(yīng)反復(fù)預(yù)熔,總的要求是在蒸發(fā)材料升溫到蒸發(fā)溫度時(shí),真空度不再下降。
6、蒸發(fā)
蒸發(fā)技術(shù)對涂層質(zhì)量有很大影響,對一般金屬、特殊金屬和化合物有不同的要求。比如有些金屬需要快速蒸發(fā),而其他金屬不適合。加熱方法和蒸發(fā)源的形狀應(yīng)根據(jù)蒸發(fā)材料的不同而定。