電子束真空鍍膜設(shè)備是根據(jù)電子束蒸發(fā)的物理氣相堆積(PVD)技術(shù)，它在真空下使用電子束直接加熱蒸發(fā)材料(通常是顆粒)，并將蒸發(fā)的材料輸送到基板上構(gòu)成一個(gè)薄膜。電子束蒸鍍能夠鍍出高純度、高精度的薄膜。

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)作為工藝實(shí)驗(yàn)儀器通常被用于材料科學(xué)領(lǐng)域，是一種普適鍍膜機(jī)，用于鍍制各種單層膜、多層膜?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜。主要用于制備納米器材、有機(jī)光電器材的金屬電極，以及制備用于成長(zhǎng)納米材料的催化劑薄膜層。

電子束真空鍍膜設(shè)備的使用范圍

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)因其高堆積速率和高材料使用功率而被廣泛使用于各種使用中。例如，高性能航空航天和汽車行業(yè)，對(duì)材料的耐高溫和耐磨性有很高的要求;耐用的東西硬涂層;和化學(xué)屏障和涂層，以保護(hù)腐蝕環(huán)境中的外表。電子束蒸發(fā)也用于光學(xué)薄膜，包含激光光學(xué)、太陽(yáng)能電池板、玻璃和建筑玻璃，以賦予它們所需的導(dǎo)電、反射和透射特性。

電子束真空鍍膜設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)

電子束蒸技術(shù)發(fā)能夠蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料，比一般電阻加熱蒸發(fā)技術(shù)功率更高。電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)可廣泛用于高純薄膜和導(dǎo)電玻璃等光學(xué)鍍膜。它還具有用于航空航天工業(yè)的耐磨和熱障涂層、切削和東西工業(yè)的硬涂層的潛在工業(yè)使用。但是，電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)不能用于涂覆雜亂幾許形狀的內(nèi)外表。此外，電子槍中的燈絲退化或許導(dǎo)致蒸發(fā)速率不均勻。

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的工作流程

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)是根據(jù)鎢絲的蒸發(fā)。大約5到10 kV的電流經(jīng)過鎢絲(坐落堆積區(qū)域外以防止污染)并將其加熱到產(chǎn)生電子熱離子發(fā)射的點(diǎn)。使用永磁體或電磁體將電子聚焦并導(dǎo)向蒸發(fā)材料(放置在坩堝中)。在電子束碰擊蒸發(fā)丸外表的進(jìn)程中，其動(dòng)能轉(zhuǎn)化為熱量，釋放出高能量(每平方英寸數(shù)百萬(wàn)瓦以上)。因此，容納蒸發(fā)材料的爐床有必要水冷以防止熔化。

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)和熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)的區(qū)別

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)和熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)的區(qū)別在于:電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)是用一束電子炮擊物體，產(chǎn)生高能量進(jìn)行蒸發(fā)，熱蒸發(fā)經(jīng)過加熱完結(jié)這一進(jìn)程。與熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)相比，電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)提供了高能量;但將薄膜的厚度控制在5nm量級(jí)將是困難的。在這種情況下，帶有厚度監(jiān)控器的良好熱蒸發(fā)器將更適宜。

與熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)相比，電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn)

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)能夠?qū)⒉牧霞訜岬奖葻嵴舭l(fā)鍍膜機(jī)更高的溫度。這允許高溫材料和難熔金屬(例如鎢、鉭或石墨)的十分高的堆積速率和蒸發(fā)。

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)能夠堆積更薄、純度更高的薄膜。坩堝的水冷將電子束加熱嚴(yán)格約束在僅由源材料占有的區(qū)域，從而消除了相鄰組件的任何不必要的污染。

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的蒸發(fā)源有各種尺寸和配置，包括單腔或多腔。